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第23問(wèn) 如何形成低溫多晶硅
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        上一問(wèn)與大家聊過(guò)非晶硅TFT的制造工藝,這一問(wèn)介紹一下LTPSTFT的制作工藝。a-SiTFT一般為底柵5Mask結(jié)構(gòu),而LTPSTFT由于底柵結(jié)構(gòu)導(dǎo)致硅層中結(jié)晶性不佳,無(wú)法提高載流子遷移率,目前頂柵式LTPSTFT已是主流結(jié)構(gòu)。LTPSTFT與a-SiTFT主要有兩點(diǎn)制程    （共 681 字）     [閱讀本文] >>

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