雙光束超分辨光刻技術的發(fā)展和未來

摘要： 近年來，隨著芯片制造工藝的不斷提高，光刻技術發(fā)展面臨著一些難題，這些難題也影響著芯片行業(yè)發(fā)展及摩爾定律的持續(xù)性。然而，當前主流的極紫外光刻技術已經接近制造極限，需要更先進的技術來突破技術瓶頸。綜述了基于雙光束超分辨技術的光刻技術概念，并分析了其優(yōu)勢和潛力，同時提出了該技術面臨的挑戰(zhàn)和可能的解決方案，指出這種新型光刻技術有望在微納制造領域扮演重要的角色。