面向散射光場調(diào)控的波前整形方法及其成像應(yīng)用（特邀）

摘要： 光學(xué)散射一直以來都被認(rèn)為是限制光學(xué)成像深度的重要因素。近年來，波前整形方法克服光學(xué)散射的能力引起了研究人員的廣泛關(guān)注，其核心思想是通過對入射光進(jìn)行相位調(diào)制，補(bǔ)償散射引起的波前擾亂。波前整形方法能夠有效地重新聚焦散射光，有望實(shí)現(xiàn)深層組織內(nèi)高分辨率成像的目標(biāo)?；仡櫫瞬ㄇ罢蔚臍v史發(fā)展，討論了不同類型的波前整形方法，展示了其在克服光學(xué)散射以實(shí)現(xiàn)深層組織成像方面的應(yīng)用實(shí)例，并展望了波前...