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基于廣度優(yōu)先搜索的全芯片光源掩模優(yōu)化關(guān)鍵圖形篩選方法

光學學報 頁數(shù): 11 2024-04-17
摘要: 提出一種基于廣度優(yōu)先搜索的全芯片光源掩模優(yōu)化關(guān)鍵圖形篩選方法。通過廣度優(yōu)先搜索算法得到所有圖形數(shù)最少的關(guān)鍵圖形組。以45 nm標準單元庫測試圖形集為例,采用商用計算光刻軟件Tachyon Tflex對本文方法的篩選結(jié)果進行仿真驗證。結(jié)果表明,本文方法獲得的關(guān)鍵圖形組的工藝窗口優(yōu)于Tachyon Tflex中的同類技術(shù)。相比于基于深度優(yōu)先搜索的全芯片SMO關(guān)鍵圖形篩選方法,本文方...

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