Cu/Co阻擋層中復配緩蝕劑緩蝕機理與研究進展

摘要： 拋光液是化學機械拋光(CMP)的關鍵要素之一，其中緩蝕劑是拋光液的基本組分之一。傳統(tǒng)的緩蝕劑緩蝕效果差，緩蝕效率低。而復配緩蝕劑因緩蝕效率高、緩蝕效果好和環(huán)境友好等優(yōu)勢成為CMP領域研究重點。根據文獻，分析了唑類緩蝕劑對Cu/Co阻擋層的緩蝕機理，對近五年來新型復配緩蝕劑在國內外CMP過程中的研究進展以及復配緩蝕劑的實驗評價和分子動力學模擬進行了歸納總結。同時評價了電化學法中E...