專利平臺(tái)驅(qū)動(dòng)的企業(yè)創(chuàng)新模式：基于38家高新技術(shù)企業(yè)的組態(tài)分析

摘要： 實(shí)現(xiàn)高水平的科技自立自強(qiáng)，要求企業(yè)轉(zhuǎn)變創(chuàng)新模式，從“技術(shù)拿來主義”的“外源式”創(chuàng)新走向平臺(tái)驅(qū)動(dòng)的“內(nèi)源式”持續(xù)創(chuàng)新，專利平臺(tái)是內(nèi)源式創(chuàng)新的重要支撐。盡管現(xiàn)有研究關(guān)注到專利平臺(tái)對(duì)技術(shù)創(chuàng)新的重要作用，但對(duì)專利平臺(tái)的內(nèi)涵和特征刻畫研究不足，導(dǎo)致難以回答“什么樣的專利平臺(tái)在什么條件下能夠更好地驅(qū)動(dòng)企業(yè)自主創(chuàng)新”。本文創(chuàng)新性地采用“基礎(chǔ)區(qū)塊強(qiáng)度”和“區(qū)塊賦能強(qiáng)度”來刻畫專利平臺(tái)的內(nèi)涵，并... （共14頁(yè)）