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EAST裝置中TZM材料基底表面硅化鍍膜特性研究

真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào) 頁數(shù)： 9 2023-06-07
摘要： 文章研究了EAST聚變裝置中，在離子回旋（ICRF）和直流輝光（GD）兩種放電輔助下氘化硅烷與氦的混合氣體（10%SiD4+90%He）在第一壁鈦鋯鉬合金（Titanium-zirconium-molybdenum,TZM）表面硅化鍍膜的特性。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，相同工作功率的ICRF輔助硅化，烘烤溫度更高比烘烤溫度低的樣件表面沉積的硅膜均勻光滑。這可能是由于樣件表面烘烤溫度越高，越...

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