硅微透鏡陣列的制備工藝

摘要： 開發(fā)了一種和MEMS工藝兼容的基于硅微加工技術(shù)的簡(jiǎn)易硅微透鏡陣列制造技術(shù)。利用光刻膠熱熔法和等離子體刻蝕法相結(jié)合的方法，實(shí)現(xiàn)了在硅晶圓上制作不同尺寸的硅微透鏡陣列的工藝過程。實(shí)驗(yàn)中，對(duì)透鏡制作過程中的熱熔工藝、刻蝕工藝進(jìn)行了深入的研究。最終確定了最優(yōu)的工藝參數(shù)，制備了孔徑在20～90μm、表面質(zhì)量高的硅微透鏡陣列。