Cu-Co-Si系低Si側(cè)擴散行為研究

摘要： 本文采用固-固擴散偶技術(shù)，利用掃描電子顯微鏡(SEM)和能譜分析儀(EDS)對CuCo-Si系擴散偶的微觀結(jié)構(gòu)和成分分布等擴散行為進行了研究。結(jié)果表明，1000℃時擴散偶Co94Si6-Cu94Si6和Co90Si10-Cu94Si6均呈層狀結(jié)構(gòu)，均由Cu基固溶體、金屬間化合物Co₂Si和Co基固溶體三個單相層組成; 700℃時擴散偶Co94Si6-Cu94Si6的層狀結(jié)構(gòu)則...