(2)相對無壓力印模與傳統(tǒng)印模的區(qū)別(下頜)
臨床醫(yī)學(xué)

        相對無壓力印模與傳統(tǒng)印模比較:采用相對無壓力印模方法制取的印模,黏膜位置沒有受到過大壓力,印模邊緣形態(tài)與義齒最終基托邊緣形態(tài)接近。可見頰棚區(qū)形態(tài)自然,沒有過度加壓現(xiàn)象(圖3-61①)。頰肌下方的纖維組織在壓力下可以有    （共 253 字）     [閱讀本文] >>