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近場光學(xué)

所謂近場光學(xué),是相對于遠(yuǎn)場光學(xué)而言。研究距離光源或物體一個波長范圍內(nèi)的光場分布。

傳統(tǒng)的光學(xué)理論,如幾何光學(xué)、物理光學(xué)等,通常只研究遠(yuǎn)離光源或者遠(yuǎn)離物體的光場分布,一般統(tǒng)稱為遠(yuǎn)場光學(xué)。遠(yuǎn)場光學(xué)在原理上存在著一個遠(yuǎn)場衍射極限,限制了利用遠(yuǎn)場光學(xué)原理進(jìn)行顯微和其它光學(xué)應(yīng)用時的最小分辨尺寸和最小標(biāo)記尺寸。而近場光學(xué)則研究距離光源或物體一個波長范圍內(nèi)的光場分布。在近場光學(xué)研究領(lǐng)域,遠(yuǎn)場衍射極限被打破,分辨率極限在原理上不再受到任何限制,可以無限地小,從而基于近場光學(xué)原理可以提高顯微成像與其它光學(xué)應(yīng)用時的光學(xué)分辨率。

基于近場光學(xué)技術(shù)的光學(xué)分辨率可以達(dá)到納米量級,突破了傳統(tǒng)光學(xué)的分辨率衍射極限,這將為科學(xué)研究的諸多領(lǐng)域,尤其是納米科技的發(fā)展提供有力的操作、測量方法和儀器系統(tǒng)。目前,基于隱失場探測的近場掃描光學(xué)顯微鏡、近場光譜儀已經(jīng)在物理、生物、化學(xué)、材料科學(xué)等領(lǐng)域中得到應(yīng)用,并且應(yīng)用范圍正在不斷地擴(kuò)大;而基于近場光學(xué)的其它應(yīng)用,如納米光刻和超高密度近場光存儲、納米光學(xué)元器件、納米尺度粒子的捕獲與操縱等等,也吸引了眾多科學(xué)工作者的注意。


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